微影半導體宣布，成功結合LED光源與超高焦距深度投影鏡頭，推出業界稀缺的「步進式微米級投影曝光機」，具節能、環保及高性價比優勢，讓微影成為少數掌握關鍵製程設備技術的台灣廠商，在全球設備高度集中且依賴進口的市場格局中具備突圍契機。

微影由董事長胡德立領軍，核心技術雖源自歐美，經過團隊十餘年整合與自主研發，取得重大突破，並同時於竹科設立研發中心、台南建置生產基地，強化研發與製造一體化布局。胡德立並身兼駿吉控股（1591）董座。

根據統計，全球半導體設備市場規模約1,240億美元，預計2030年將達1,779.7億美元，年複合增長率7.5%；其中，步進式曝光設備市場規模可望從2021年的182億美元，成長至2031年的450億美元，年增率9.5%，亞太市場為主要成長動能。

在新商業模式推動下，微影今年營收可望達1億元至1.5億元，並規劃明年第4季登錄興櫃。

胡德立指出，韓國與大陸在官方資金與本土品牌帶動下，已發展出曝光機、濺鍍機等核心製程設備，並躋身全球前十大設備商；台灣雖在全球晶圓代工領域取得關鍵位置，但核心設備多依賴代理進口，國產廠商僅能聚焦於非製程周邊設備，難以切入製程核心。

為突破困境，駿吉控股採取「晶片導入設備」策略，透過自有DDR記憶體晶片外包，帶動封裝廠採用集團的晶圓切割、貼片、測試設備，形成一條龍供應鏈；未來結合台廠濺鍍機、蝕刻機與微影的曝光機，構建自主設備聯盟，從製程、製造到封裝建立完整在地產業鏈，減少對歐美日設備商的依賴。

微影並同步研發濺鍍機與蝕刻機，年底駿吉啟動DDR5晶片製程後，曝光機業務可望同步受惠，進一步推升營收與獲利表現。